详细摘要： 简要描述：高温三温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二...

详细摘要： 简要描述：低温单温区系列管式炉系周期作业,供企业、院校、研究机构等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等新...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：这款CVD系统集真空管式炉,多通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区）,可预抽真空（有高真空、低真空）,通多种气...

详细摘要： 简要描述：本款管式炉产品以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,分为上下两个半圆,需...

详细摘要： 简要描述：立式管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域,进行气氛保护下对样品进行热处理、烧结、沉积镀膜、灰分测量...

详细摘要： 简要描述：PECVD工艺中由于等离子体中高速运行的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；借助射频等使含有薄膜...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：旋转式管式炉专为烧结无机化合物获得较好的一致性而设计,适合航空航天、新能源,LED发光材料等行业,炉体可倾斜30,炉管可360旋转。炉子在旋转同时下可...

详细摘要： 简要描述：立式管式气氛炉主要用于玻璃、生物陶瓷、石墨烯、锂电正负极材料、晶体退火、LED发光材料等领域,进行气氛保护下对样品进行热处理、烧结、沉积镀膜、灰分测量...

详细摘要： 简要描述：双温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：高温管式电阻炉厂家这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1700型氧化铝多晶体...

详细摘要： 简要描述：双温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化...

详细摘要： 简要描述：单管滑动快速加热冷却炉是一款可滑动管式炉,工作温度可达1200#176;C。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100#176;C/m。...

详细摘要： 简要描述：这款管式炉以优质硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构,厦门宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间...

详细摘要： 简要描述：高温双温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二...

详细摘要： 简要描述：多温区管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等,也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化...

详细摘要： 简要描述：单管滑动快速加热冷却炉是一款可滑动管式炉,工作温度可达1200#176;C。炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率可达100#176;C/m。...